早前举办的怕中All-In科技峰会上 ，大概两到三年时间内 ，国自把当前的研光算力缺口完全补齐 。
他进一步解释 ，刻机
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。几乎站在了全球顶尖梯队。当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，
黄仁勋还补充提到 ，正在逐步形成合力 ，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，只是时间早晚的问题 。这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。靠单位算力输出的实际性能，目前中国本土的AI大模型技术 ，
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断 ，